德國BRUKER薄膜光學測量系統FilmTek 2000基于非接觸式光學技術，集成光譜反射、光譜橢偏及多角度聯用等多種配置，內置先*材料模型與全局優化算法，可快速、無損、高精度同步測定薄膜厚度、折射率、消光系數等參數。專*MADP與DPSD技術實現折射率分辨率高達2×10??，測量范圍覆蓋從亞原子層到超百微米厚度。廣泛應用于半導體、光電子、先*封裝及硅光子學等領域，為薄膜表征提供精準可靠的解決方案。

德國BRUKER薄膜光學測量系統FilmTek 2000產品線簡介 布魯克FilmTek薄膜光學測量系統基于非接觸式光學技術，內置多種材料模型與先*的全局優化算法，可快速、無損 且高精度的同步測定多個薄膜參數，如薄膜厚度、折射率、消光系數等。 FilmTek薄膜測量系統包括光譜反射式、光譜橢偏式和多角度反射/橢偏聯用式。光譜反射式可用于測量從幾納米到 超過100微米的薄層厚度和光學特性，還可測量Via、溝槽結構的深度。光譜橢偏式能夠測量更薄的薄膜，*薄可至單 個原子層以下，此外還能提供樣品介電特性的高精度、可重復測量結果。多角度反射 / 橢偏聯用式，在薄膜厚度和折射 率的準確度與重復性方面達到同類*佳，折射率分辨率可達2x10-5，可實現從超薄膜到厚膜的折射率與厚度測量，非 常適用于測量超薄膜、多層薄膜堆疊以及對折射率分辨率有*高要求的材料。

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